Pourquoi la mesure de résistivité est-elle critique dans l'usage d'eau ultrapure pour les processus de photolithographie?
La mesure de résistivité est un indicateur décisif de la pureté ionique de l'eau ultrapure, essentielle dans les processus de photolithographie pour la fabrication de semi-conducteurs. Une résistivité élevée, avoisinant 18,2 MΩ.cm à 25°C, signifie une faible concentration d'ions dans l'eau, ce qui est impératif pour prévenir la contamination des plaquettes de silicium et garantir la précision des motifs gravés.
La présence d'ions dans l'eau peut occasionner des problèmes variés, notamment des défauts de lithographie, une réduction de la résolution, et une diminution du rendement des puces. Pour atteindre une telle pureté, des systèmes de purification d'eau comme le PURELAB Chorus 1 et le SIRION™ Mini peuvent être utilisés en combinaison avec des traitements chimiques tels que ceux de la gamme Hydrex pour optimiser la performance des membranes et protéger l'intégrité de l'eau ultrapure.
